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摘要：
2023上海國際光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展覽會
ShanghaiPhotolithographyEquipmentandMaskTechnologyExhibition
基本信息
時間：2023年11月22-24日
地點：上海新國際博覽中心
展會簡介
微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技…
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2023上海國際光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展覽會
Shanghai Photolithography Equipment and Mask Technology Exhibition
基本信息
時間：2023年11月22-24日
地點：上海新國際博覽中心
展會簡介
微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動力，21世紀(jì)光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來,在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。
隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高端芯片的集成度達到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管，推動芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展，在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進封裝工藝發(fā)展需求的情況下，先進的大視場、大焦深、高精度投影光刻機逐步成為先進封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。“2023上海國際光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展覽會”將于11月22-24日在上海新國際博覽中心隆重舉辦，歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀！
參展理由
1、品牌吸引力-在同行和客戶間展示形象、提升行業(yè)地位、品牌價值度、知名度、榮譽度。
2、市場策略-了解市場信息、拓展銷售渠道、獲取市場訂單、維護銷售網(wǎng)絡(luò)。
3、建立進口、批發(fā)、經(jīng)銷、團購、零售的銷售渠道。
4、獲取產(chǎn)品的忠實粉絲您的品牌將會被專業(yè)及大眾媒體關(guān)注和跟蹤宣傳，成為產(chǎn)品中的明星。
觀眾邀請
邀請全國、省、市、各相關(guān)科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢機構(gòu)和公共機構(gòu)的專家代表等人員到會參觀、洽談。
展會亮點
平臺：締造行業(yè)采購交流平臺；
了解：規(guī)劃、設(shè)計與施工國內(nèi)外產(chǎn)品新技術(shù)及服務(wù)；
建立：用戶直達現(xiàn)場，構(gòu)建新的客戶關(guān)系；
結(jié)識：上下游產(chǎn)業(yè)聯(lián)動，精彩論壇、沙龍助推業(yè)界專家、同仁及用戶零距離接觸；
推廣：通過主承辦單位強大的行業(yè)沉淀，為您提供廣闊的市場推廣；
日程安排
報到布展：
2023年11月20-21日
展出時間：
2023年11月22日
2023年11月23日
2023年11月24日
參展范圍
◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等；
◆光刻機、光刻技術(shù)、步進投影光刻機、掃描投影光刻機、納米光刻技術(shù)、無掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機、光刻機零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無機芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等；
◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測試等；
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